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紫外激光掩膜法刻写光纤光栅设备

型号:GLFS-UVFGB
产品说明

激光器输出的紫外激光经空间滤波后得到纯净、均匀的光束;经扩束系统后得到所需尺寸的准直光束;安装切趾控制模块实现切趾功能;经平凸柱透镜聚焦后到达相位模板,相位模板的±1级衍射光发生双光束干涉,干涉形成条纹照射到光纤上,明暗条纹相应地调制到光纤纤芯中形成布拉格光栅。

系统构成:光纤增敏+光栅刻写+后处理

系统包括光纤增敏、光栅刻写和后处理三部分,为科研用户及企业用户提供全套光纤布拉格光栅制作解决方案,实现均匀光栅、啁啾光栅、相移光栅的制作,满足超快激光、高功率光纤激光、通讯、传感等领域需求。 微信图片_20231226141857.png

系统特色:自研紫外激光和控制软件

自制紫外激光器:经过多年技术积累,针对石英光纤特点,开发出适用于石英光纤光栅刻写的固体紫外激光器,输出激光波长266 nm、213 nm可选。其中,266 nm激光器制作光纤光栅调制噪声小、一致性好,更加适合于科研用户;213nm激光吸收效率高,加工速度快,更适用于企业用户大规模生产。 微信图片_20231226142058.png

自研光栅刻写控制软件 配置光纤扫描对准、扫描刻写、定点曝光刻写、切趾参数控制、调制深度控制、参数保存调用等功能, 可根据用户需求进行定制。 微信图片_20231226142229.png

系统参数 高压氢气增压载氢:最高可达200 atm,增敏光纤保存周期长达1年以上 ·支持刻写栅区宽度:1 mm - 200 mm ·刻写光栅波段:1000 nm - 2000 nm ·光栅色散值范围:0.1 ps/nm - 120ps/nm ·光纤包层直径:125 um - 400um,PM980、10/130、25/250、20/400、25/400等 · 切趾控制:余弦、升余弦、均匀等 ·应用领域:超快激光、高功率光纤激光、通讯、传感 ·光栅类型:均匀光栅、啁啾光栅、相移光栅

示意图
产品参数
刻写栅区宽度 :
1 - 200 mm
刻写光栅波段 :
1000 - 2000 nm
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型号:GLFS-UVFGB
刻写光栅波段 :
1000 - 2000 nm
刻写栅区宽度 :
1 - 200 mm